Виды микросхем

Классификация изделий микроэлектроники

Классификация микросхем может быть проведена по разли­чным признакам. По функциональной сложности ИС принято ха­рактеризовать степенью интеграции, условно оцениваемой по де­сятичному логарифму числа элементов и компонентов, содержа­щихся в корпусе микросхемы. По этому признаку в настоящее время различают восемь степеней интеграции:

первая степень — 1… 10 элементов;

вторая степень — 10… 102 элементов;

третья степень — I02… 103 элементов;

четвертая степень — 103… 104 элементов;

пятая степень — 104… 105 элементов;

шестая степень — 105… 106 элементов;

седьмая степень — 106… 107 элементов;

восьмая степень — свыше 107 элементов.

Интегральные схемы первой и второй степеней интеграции по­лучили название малых интегральных схем (МИС). В англоязы­чной литературе они обозначаются термином Integrated Circuit (1С). Обычно они содержат один или несколько цифровых либо анало­говых элементов (логические вентили, триггеры, операционный усилитель и т.п.). Средняя интегральная схема (СИС или MSI — Medium Scale Integration) — это интегральная схема второй-тре­тьей степени интеграции, содержащая уже не элементы, а функ­циональные узлы устройства (регистр, счетчик, дешифратор и др.). Большая интегральная схема (LSI — Large Scale Integration) име­ет третью либо четвертую степень интеграции и содержит одно или несколько функционально законченных устройств либо его частей. Сверхбольшая интегральная схема (СБИС или VLSI — Very Large Scale Integration) — интегральная схема пятой —седь­мой степени интеграции. К этому классу относятся, например, микросхемы микроконтроллеров, памяти большого объема и т.д. Наконец, ультрабольшие интегральные схемы (УБИС или ULSI — Ultra Large Scale Integration) имеют степень интеграции выше седьмой. К СБИС и УБИС относятся, например, центральные мик­ропроцессоры современных ЭВМ.

Еще одним признаком, характеризующим уровень технологии производства микросхем, является плотность упаковки — коли­чество элементов, размещенных на единице площади кристалла.

В настоящее время для микросхем с низкой степенью интеграции этот параметр имеет порядок 102… 103 мм-2, т.е. на одном квадрат­ном миллиметре помещается примерно 100… 1 000 элементов. В то же время в отдельных случаях (например, в современных микро­процессорах) плотность упаковки может достигать величины по­рядка 105 элементов/мм2.

В зависимости от вида обрабатываемых сигналов все интеграль­ные микросхемы подразделяют на аналоговые и цифровые. Ана­логовые интегральные микросхемы предназначены для преоб­разования и обработки сигналов, изменяющихся по закону непрерывной функции. Областью их применения являются прежде всего устройства аппаратуры телевидения и связи, а также изме­рительные приборы и системы контроля. Цифровые интеграль­ные схемы предназначены для обработки сигналов, изменяющихся по закону дискретной, как правило, двоичной функции. Они при­меняются для построения цифровых вычислительных машин, циф­ровых узлов измерительных приборов, систем автоматического управления и т.д. В настоящее время наблюдается тенденция все более широкого и успешного проникновения цифровых методов (следовательно, и микросхем) в традиционно аналоговые обла­сти. Примером могут служить цифровые методы обработки и за­писи звука, позволившие получить недостижимое ранее качество.

По структуре и базовой технологии изготовления микросхемы подразделяются на два принципиально разных типа: полупровод­никовые и пленочные. Своеобразное смешение этих двух техноло­гий позволяет производить гибридные, а также совмещенные интегральные схемы.

Основу современной микроэлектроники составляют полу­проводниковые ИС, элементы которой выполнены в тон­ком (1… 10 мкм) приповерхностном слое полупроводниковой под­ложки, роль которой выполняет монокристалл кремния толщи­ной 200… 300 мкм. В зависимости от степени интеграции площадь подложки может варьироваться в весьма широких пределах: от нескольких единиц до 600…700 мм2.

Элементы пленочной микросхемы выполнены в виде раз­ного рода проводящих и непроводящих пленок, нанесенных на диэлектрическую (обычно стеклянную либо керамическую) под­ложку. Чисто пленочные ИС содержат только пассивные элементы (резисторы, конденсаторы, иногда элементы индуктивности), так как пленочная технология не позволяет получать на подложке активные элементы (транзисторы), поэтому применение плено­чных ИС ограничено.

Гибридная ИС представляет собой пленочную микросхему, на которой после ее изготовления размещают в виде навесных эле­ментов специально изготовленные безкорпусные диоды и транзи­сторы.

Основой совмещенной микросхемы служит полупроводнико­вая ИС со сформированными активными элементами, на кото­рую после изоляции поверхности нанесены пассивные пленочные элементы.

Внутри каждого типа ИС существует своя классификация, обус­ловленная как физическими принципами работы, так и техноло­гическими особенностями производства.



Виды транзисторов

Биполярные транзисторы

Устройство и принцип действия биполярного

транзистора

Транзисторами (от англ. transfer of resistor — преобразователь сопротивления) называются трехэлектродные полупроводнико­вые приборы с одним или двумя переходами, способные усили­вать мощность электрических сигналов. По устройству и принци­пу действия их подразделяют на два основных класса: биполярные и униполярные.

Первым был изобретен биполярный транзистор, который пред­ставлял собой совокупность двух включенных «навстречу» взаи­модействующих р—п-переходов. Взаимодействие переходов кон­структивно обеспечивается достаточно близким расположением их относительно друг друга (меньшим, чем диффузионная длина свободного пробега неосновных носителей заряда).

Транзистор — это полупроводниковый монокристалл, в кото­ром сформирована трехслойная структура с чередующимися ти­пами электропроводности. В зависимости от чередования слоев, обладающих разным типом электропроводности, различают п-p-n- иp-n-p -структуры. 

Яндекс.Метрика